광시스템공학과

 
■ 일시 : 2012.10.23(화) 14:00 ~ 16:00
■ 장소 : 테크노관 시청각실(T301)
■ 주제 : 포토닉스 응용을 위한 펨토초 레이저 3차원 직접 묘화법
        (Femtosecond laser direct 3D writing for photonic applications)
■ 요약 :   펨토초 레이저를 비롯한 극초단 펄스 레이저를 이용하면 짧은 펄스폭과 이로 인해 얻어지는 높은 첨두 출력으로 투명 광학 재질 안에서 비선형 광학 현상중 하나인 다광자 흡수를 쉽게 일으킬 수 있다. 물질에 흡수된 에너지는 흡수된 영역에서 굴절률과 밀도 변화 등의 물리화학적 성질 변화를 일으킨다. 이러한 변화는 레이저 강도에 비례하는 비선형 광학 현상의 특성상 렌즈를 통해 집광된 빛의 초점 부근에서 더욱 크게 일어나므로 에너지 흡수영역을 초점 부피 정도로  국소화 할 수 있어 마치 “광학펜”과 같이 투명 재질 내부에 임의의 3차원 미세 구조를 생성할 수 있다. 이를 이용한 극초단 펄스 레이저 기반 3차원 직접 묘화 기술은 기존의 리소그래피로 제작하기 어려웠던 3차원 광도파로, 회절격자, 미소 채널 제작이 가능하고 마스크가 불필요하므로 공정 시간을 줄일 수 있으며 소량의 proto-type 소자들을 제작하는데 용이하다.  
   본 발표는 두가지 연구 분야를 소개한다. 먼저 펨토초 레이저 직접 묘화법의 기반이 되는 투명 재질 내부의 비선형 광학 흡수 현상에 대해 논의하고, chalcogenides, telurite, silver containing phosphate glass 등의 다양한 광학 물질-레이저 상호작용과 이를 바탕으로 한 회절광학 렌즈, 광메모리 제작등 포토닉스 소자를 제작하는데 응용되는 사례를 살펴본다. 두 번째로 그동안 학문적인 연구에 국한되었던 극초단 펄스 레이저의 활용이 최근 여러 제조 산업 영역에까지 확대됨에 따라 그 현황을 소개하고 앞으로의 전망에 대해 생각해보고자 한다. 
 
■ 이력 :
1992. 3. ~ 1997. 2.  이화여자대학교 물리학 학사
1997. 3. ~ 1999. 8.  이화여자대학교 물리학 석사
2004. 8. ~ 2009. 12. CREOL, Univ. Central Florida 미국, 광학 박사
2008. 4. ~ 2010. 6.  Univ. Bordeaux I 프랑스, 물리학 박사(Joint degree)
1999. 11. ~ 2002. 7. 이오테크닉스 대리
2008. 4. ~ 2008. 7.  ICMCB/Univ. Bordeaux I, France, visiting scholar
2009. 12. ~ 2010. 6. CREOL, Univ. Central Florida, USA, Post-Doc
2010. 6. ~ 현재      한국기계연구원 선임연구원
2012. 3. ~ 현재      한국과학기술연합대학원(UST) 겸임부교수 나노메카트로닉스 전공